台积电N3工艺SRAM密度仅略有提升:与N5节点相似,未来展望备受期待

2023-05-30 20:04 编辑:爆米花
编辑有话说:这则消息意味着台积电的N3工艺与N5工艺相比,SRAM的密度提升幅度较小,仅为5%。这可能表明N3工艺的技术进步有限,与N5工艺节点基本相同,可能会影响台积电在市场上的竞争力。

台积电 N3 工艺节点的 SRAM 密度和 N5 工艺节点基本相同。台积电在近日举办的 2023 技术研讨会上,展示了关于 N3 节点阵容的更多信息。研讨会上的幻灯片显示,显示 N3 工艺虽然改进了逻辑密度(logic density),但是 SRAM 密度基本相同。

消息称台积电N3 SRAM密度仅提升5%:与N5工艺节点基本相同

从最近几年芯片缩微化来看,SRAM 密度明显要慢于芯片逻辑密度,也必然对未来更先进的芯片工艺进展带来更大的挑战。

台积电最初声称 N3B SRAM 密度比 N5 工艺高 20%,而最新信息显示,SRAM 密度仅提升 5% 。

SRAM 是处理器晶体管等成本的大头,在没有密度改善的情况下,无疑会推高 N3B 的制造成本。

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  • 发布时间:2023-05-30 20:04:24
  • 最后一次修改时间:2023-09-15 10:48:45
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