Intel 4工艺全面量产,EUV光刻机带来历史性突破

2023-01-27 14:41 编辑:
编辑有话说:Intel 4工艺的大规模量产是迈向先进技术的重要里程碑。EUV光刻机的应用为芯片制造带来了突破性进展,将推动芯片性能和能效的提升。这是一个令人兴奋的时刻,也为未来科技发展带来了更多可能性。

Intel 4工艺大规模量产,EUV光刻机成为里程碑,Intel在先进制造工艺上投入颇深,按照官方说法进展也颇为顺利。

Intel 7(原来的10nm ESF增强版)已经大量用于消费级的12/13代酷睿、企业级的4代可扩展至强。

Intel 4(原来的7nm)已经做好了生产准备,将在今年下半年随着Meteor Lake 14代酷睿的发布提升产能。

值得一提的是,上个季度内,Intel的第一台大容量EUV光刻机在欧洲成功产生了13.5nm波长的光源,这是实现Intel 4工艺大规模量产的一个里程碑。

Intel 3正在按计划推进中。

Intel 20A、Intel 18A均已经完成了测试芯片的流片,它们将引入RibbonFET环绕栅极晶体管、PowerVia后端供电两大关键新技术。

Intel一直没有明确3、20A、18A工艺所对应的具体产品,但是酷睿后边的家族代号早已经公布了多代:Arrow Lake、Lunar Lake、Panther Lake、Nova Lake……

Intel 4工艺大规模量产,EUV光刻机成为里程碑

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  • 发布时间:2023-01-27 14:41:28
  • 最后一次修改时间:2023-09-15 15:03:25
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